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名称 |
密度 |
色泽 |
熔点 |
沸点 |
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铜靶材 |
8.92g/cm3 |
紫红色 |
1083.4℃ |
2567℃ |
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常用纯度 |
99.9%3N，99.99%4N，99.999%5N，99.9999%6N |
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铜靶材用途：适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铜靶材的价格较低，所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的靶材料。